Hochtemperatur-Röntgendiffraktometrie (HT-XRD)

Analyt:         

• anorganische Materialien, Werkstoffe, Komposite,  pulverförmige  und kompakte Proben
• Probengeometrie: pulverförmige  Proben, kompakte Proben, dünne Schichten usw.
• benötigte Probenmenge: wenige mg

 

Zielgrößen/Anwendungen:

• zeit-/temperaturabhängige Strukturumwandlungen
• in-situ Untersuchungen von Feststoff-Feststoff Reaktionen oder Gas-Feststoff Reaktionen
• simultane Untersuchungen struktureller und katalytischer Parameter von Katalysatoren
• Charakterisierung sauerstoff-/feuchtigkeitsempfindlicher Materialien
• kinetische Untersuchungen von Festkörperreaktionen
• Untersuchungen von temperaturabhängigen Alterungsprozessen unter Reaktionsbedingungen (z. B. für Katalysatoren)

 

Technische Ausstattung:

Röntgendiffraktometer: Empyrean (Fa. PANalytical)

• Wellenlänge: Co-Kα₁; λ = 0,176 nm

Hochtemperaturkammer: HTK-2000N (Fa. Anton Paar)

• Betrieb:
  • Luft (Pt-Heizband) - Raumtemperatur bis 1600 °C (kurze Laufzeit)
  • Luft (Pt-Heizband) - Raumtemperatur bis 1450 °C (Dauerbetrieb)
  • Luft (Ta-Heizband) - Raumtemperatur bis 400 °C
  • Vakuum (W-Heizband) - Raumtemperatur bis 2300 °C
  • Vakuum (Pt-Heizband) - Raumtemperatur bis 1600 °C
  • Vakuum (Ta-Heizband) - Raumtemperatur bis 1500 °C 

Reaktionskammer: XRK-900 (Fa. Anton Paar)

• Betrieb:
  • Luft/Schutzgas/Vakuum - Raumtemperatur bis 900 °C
  • Reaktionsgase - Raumtemperatur bis 900 °C (max. 10 bar)
• offene (Gasdurchfluss) und geschlossene (Vakuum) Probenhalter:
  • Glaskeramik – Raumtemperatur bis 900 °
  • Inconel – Raumtemperatur bis 900 °C
  • Edelstahl – Raumtemperatur bis 600 °C